美国宾夕法尼亚大学Shu Yang课题组采用PDMS模具作为模板，通过临界点干燥处理合成了不坍塌的高保真度的纳米阵列结构材料，显示该纳米阵列材料具有高深宽比。。其合成路径如下：

图1

      如图1，先将合成材料与PDMS模具前驱体混合，经过处理后，揭去PDMS模具，覆盖上单体溶液，经过紫外照射处理，揭开聚合物阵列材料，即可得到高保真度的纳米阵列材料。其SEM图如下图2：

图2

       图2为不同处理步骤的PDMS模具纳米阵列材料SEM图。从SEM图中看出，不同处理步骤，获得的纳米阵列材料都可以很好的保持了其阵列结构不坍塌， 不变形。都具有高保真度和高深宽比。

图3

       图3中的a和b为采用了超临界点干燥处理的纳米阵列材料，c和d为没有采用超临界点干燥处理的同样的纳米阵列材料。通过对比可以发现，没有采用超临界点干燥处理的纳米阵列材料会发生凝聚，阵列之间会大幅聚合在一起，而采用超临界点干燥处理后，聚合现象等到了明显的解决，能够比较好的保持其阵列结构。