基于SEM/FIB改装的NPGS V9.2电子束曝光系统
1)NPGS以既有的SEM、STEM或FIB等为基础，外加电子束控制系统，透过电脑界面控制电镜中电子束的矢量扫描，以直接刻写图形。
2)NPGS系统兼具原SEM的观测功能。不影响SEM本身功能。
3)功能强大、操作简便、使用灵活。
4)NPGS和当今主流的SEM或FIB等均可配套。
NPGS V9.2是一个可以控制扫描电镜电子束的软件程序。基于电镜的电子束曝光简单分为两部分：刻写设计和图形运行。刻写设计是通过NPGS随机提供的QCAD程序来做。此CAD程序已经过修改，增加了用于电子束曝光的命令。图形运行包括设定参数，用于NPGS计算图形上每个点的位置以及曝光时间。
NPGS硬件板卡：定制的微影板卡是基于一个计算机工作站内部高速PCIe插槽安装的。主要特点是：
1. 采用16位高速数模转换输出，X、Y双通道同时输出，同步扫描频率5MHz，电子束驻留时间最小增量0.5纳秒，且所有频率下均能达到这个分辨率。
2. 刻写扫描方式：矢量扫描方式和位图扫描方式。
3. 集成的电子束闸控制输出。
4. 图像获取采用集成的16位模数转换输入。
5. 基于PCIe插槽，安装方便，运行可靠。
电子束阻断器(束闸)：电场型高速束闸。NPGS系统也支持无束闸运行。
皮可安培计：基于SEM的电子束曝光系统需要一个皮安计，它和法拉第杯配合测量并可精确读出轰击样品的电子束束流，精度达0.1pA。通常，需要从电镜载物台外接一个皮安计与样品电流输出相连。
电镜束流：NPGS能可选连接控制法拉第杯和/或从皮可安培计读数，但大多数用户会采用手动控制的法拉第杯和皮可安培计。
电镜参数及电动台控制：免费提供几款通用的电镜数字驱动程序及载物台驱动程序。如果有串口通讯协议，本系统支持任何外部控制。
